碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法
发布时间：2025-03-01 19:21:07
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来源：中析研究所
标准简介
国家标准《碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。
主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所、山东天岳先进科技股份有限公司、常州臻晶半导体有限公司、湖州东尼半导体科技有限公司、厦门坤锦电子科技有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、广东天域半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、中国科学院半导体研究所、ＴＣＬ环鑫半导体（天津）有限公司、浙江东尼电子股份有限公司。
主要起草人姚康 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、马春喜 、高飞 、张红岩 、陆敏 、郑红军 、房玉龙 、芦伟立 、丁雄杰 、刘薇 、李嘉炜 、晏阳 、钮应喜 、杨玉聪 、黄树福 。
标准基本信息
- 标准号
- GB/T 43313-2023
- 发布日期
- 2023-11-27
- 实施日期
- 2024-06-01
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- H21
- 国际标准分类号
- 77.040
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
- 主管部门
- 国家标准委
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