荣誉资质图片

cma资质(CMA)     CNAS资质(CNAS)     iso体系(ISO) 高新技术企业(高新技术企业)

标准简介

国家标准《砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)、全国有色金属标准化技术委员会联合归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准委。

主要起草单位北京有色金属研究总院。

主要起草人王彤涵 。

标准基本信息

标准号
GB/T 8758-2006
发布日期
2006-07-18
实施日期
2006-11-01
全部代替标准
GB/T 8758-1988,GB/T 8758-1989
标准类别
方法
中国标准分类号
H17
国际标准分类号
77.040.01
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会、全国有色金属标准化技术委员会
副归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

相近标准

YS/T 14-2015  异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法
YS/T 14-1991  导质外延层和硅夕晶层厚度测量方法
20240143-T-469  重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法
GB/T 11068-2006  砷化镓外延层载流子浓度电容-电压测量方法
GB/T 14847-2010  重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
YS/T 23-2016  硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法
YS/T 23-1992  硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法
GB/T 42905-2023  碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
YS/T 15-2015  硅外延层和扩散层厚度测定 磨角染色法
YS/T 15-1991  硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法

我们的实力

我们的实力 我们的实力 我们的实力 我们的实力 我们的实力 我们的实力 我们的实力 我们的实力 我们的实力 我们的实力

部分实验仪器

实验仪器 实验仪器 实验仪器 实验仪器

合作客户

我们的实力

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。