(CMA)
(CNAS)
(ISO)
(高新技术企业)
标准简介
国家标准计划《表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法》由TC608（全国表面化学分析标准化技术委员会）归口，主管部门为中国科学院。拟实施日期：发布后3个月正式实施。
主要起草单位清华大学、中国矿业大学（北京）、中国人民公安大学、北京大学、中山大学、中国工程物理研究院材料研究所。
主要起草人李展平 、郭冲 、章宇娟 、刘婕 、满瀚泽 、孙令辉 、徐建业 、李芹 、马静怡 、周凌 、胡小康 、陈建 、伏晓国 。
标准基本信息
- 计划号
- 20233734-T-469
- 制修订
- 修订
- 项目周期
- 12个月
- 下达日期
- 2023-12-28
- 标准类别
- 方法
- 中国标准分类号
- G04
- 国际标准分类号
- 71.040.40
- 归口单位
- 全国表面化学分析标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国表面化学分析标准化技术委员会
- 主管部门
- 中国科学院
相近标准
- GB/T 20175-2006 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
- GB/T 29557-2013 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量
- 20240152-T-469 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法
- GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
- GB/T 32999-2016 表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率
- 20240005-T-469 表面化学分析 深度剖析 中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析
- GB/T 34326-2017 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法
- GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
- GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
- GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
我们的实力
部分实验仪器
合作客户
注意：因业务调整，暂不接受个人委托测试望见谅。
