



标准简介
国家标准《锑化铟多晶、单晶及切割片》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准委。
主要起草单位峨嵋半导体材料厂。
主要起草人王炎 、何兰英 、张梅 。
标准基本信息
- 标准号
- GB/T 11072-2009
- 发布日期
- 2009-10-30
- 实施日期
- 2010-06-01
- 全部代替标准
- GB/T 11072-1989
- 标准类别
- 产品
- 中国标准分类号
- H83
- 国际标准分类号
- 29.045
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准委
相近标准
- GB/T 11297.7-1989 锑化铟单晶电阻率及霍耳系数的测试方法
- GB/T 11297.6-1989 锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法
- GB/T 11094-2020 水平法砷化镓单晶及切割片
- GB/T 11093-2007 液封直拉法砷化镓单晶及切割片
- GB/T 12965-2018 硅单晶切割片和研磨片
- GB/T 29508-2013 300mm 硅单晶切割片和磨削片
- 20241911-T-469 太阳能电池用硅单晶及硅单晶片
- 20241934-T-469 太阳能电池用砷化镓单晶及抛光片
- 20240138-T-469 氮化铝单晶抛光片
- 20250721-T-609 金刚石多晶片
我们的实力
部分实验仪器




合作客户
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。