(CMA)
(CNAS)
(ISO)
(高新技术企业)
标准简介
行业标准《晶片表面微粒沾污测量和计数的方法》，主管部门为中国有色金属工业总公司。
标准基本信息
相近标准
- 20194111-T-339 声表面波器件用单晶晶片 规范与测量方法
- GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法
- GB/T 30118-2013 声表面波（SAW）器件用单晶晶片规范与测量方法
- SJ/T 11487-2015 半绝缘半导体晶片电阻率的无接触测量方法
- GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
- 20240061-T-469 生物技术 细胞计数 第2部分：细胞计数方法质量控制的实验设计和统计分析
- EJ/T 1204.2-2006 电离辐射测量探测限和判断阈的确定 第2部分：考虑样品处理影响的计数测量
- EJ/T 1204.1-2006 电离辐射测量探测限和判断阈的确定 第1部分：忽略样品处理影响的计数测量
- GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
我们的实力
部分实验仪器
合作客户
注意：因业务调整，暂不接受个人委托测试望见谅。
