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标准简介
行业标准《电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报，主管部门为工业和信息化部。
主要起草单位宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司等。
主要起草人姚力军 、王学泽 、丁照崇等 。
标准基本信息
- 标准号
- YS/T 1025-2015
- 发布日期
- 2015-04-30
- 实施日期
- 2015-10-01
- 中国标准分类号
- H63
- 国际标准分类号
- 77.150.99
- 归口单位
- 全国有色金属标准化技术委员会
- 主管部门
- 工业和信息化部
- 行业分类
- 制造业
备案信息
备案号：50323-2015。
备案公告： 2015年第7号 。
适用范围
本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材，以下简称高纯钨及钨合金靶。
相近标准
- GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
- YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
- YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材
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