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标准简介

行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。

主要起草单位利达光电股份有限公司。

主要起草人李智超 、杨太礼等 。

标准基本信息

标准号
YS/T 719-2009
发布日期
2009-12-04
实施日期
2010-06-01
中国标准分类号
H63
国际标准分类号
77.150.99
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部
行业分类

备案信息

备案号:28132-2010。

备案公告: 2010年第4号 。

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