硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
发布时间：2025-01-08 00:45:15
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来源：中析研究所
标准简介
国家标准计划《硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。
主要起草单位洛阳中硅高科技有限公司、南京中锗科技股份有限公司、上海新昇半导体科技有限公司、唐山三孚电子材料有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司。
标准基本信息
- 计划号
- 20240139-T-469
- 制修订
- 修订
- 项目周期
- 16个月
- 下达日期
- 2024-03-25
- 标准类别
- 方法
- 国际标准分类号
- 77.040
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
- 主管部门
- 国家标准委
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