



原子力显微镜相关标准参考信息
GB/T 32189-2015 氮化镓单晶衬底表面粗糙度的原子力显微镜检验法
简介:
信息:ICS: CCS: 发布:2016-11-01 实施:2016-11-01
GB/T 32189-2015 氮化镓单晶衬底表面粗糙度的原子力显微镜检验法
简介:
信息:ICS: CCS: 发布:2016-11-01 实施:2016-11-01
GB/T 32189-2015 氮化镓单晶衬底表面粗糙度的原子力显微镜检验法
简介:
信息:ICS: CCS: 发布:2016-11-01 实施:2016-11-01
GB/T 28872-2012 活细胞样品纳米结构的磁驱动轻敲模式原子力显微镜检测方法
简介:本标准规定了磁驱动轻敲模式原子力显微镜检测活细胞样品的技术和规范。本标准适用于使用磁驱动轻敲模式原子力显微镜对活细胞的形貌和物性的检测
信息:ICS:17.180 CCS:A42;A60 发布:2012-11-05 实施:2013-02-15
GB/T 28872-2012 活细胞样品纳米结构的磁驱动轻敲模式原子力显微镜检测方法
简介:本标准规定了磁驱动轻敲模式原子力显微镜检测活细胞样品的技术和规范。本标准适用于使用磁驱动轻敲模式原子力显微镜对活细胞的形貌和物性的检测
信息:ICS:17.180 CCS:A42;A60 发布:2012-11-05 实施:2013-02-15
GB/T 28872-2012 活细胞样品纳米结构的磁驱动轻敲模式原子力显微镜检测方法
简介:本标准规定了磁驱动轻敲模式原子力显微镜检测活细胞样品的技术和规范。本标准适用于使用磁驱动轻敲模式原子力显微镜对活细胞的形貌和物性的检测
信息:ICS:17.180 CCS:A42;A60 发布:2012-11-05 实施:2013-02-15
T/CSTM 00003-2019 二维材料厚度测量 原子力显微镜法
简介:本标准规定了二维材料厚度测量原子力显微镜法的原理、仪器设备、样品前处理、测试方法、厚度计算方法、测量结果的不确定度评定及测试报告。本标准适用于可以与基底形成台阶的二维材料厚度测量
信息:ICS:07.030 CCS:M745 发布:2019-01-03 实施:2019-01-04
T/CSTM 00003-2019 二维材料厚度测量 原子力显微镜法
简介:本标准规定了二维材料厚度测量原子力显微镜法的原理、仪器设备、样品前处理、测试方法、厚度计算方法、测量结果的不确定度评定及测试报告。本标准适用于可以与基底形成台阶的二维材料厚度测量
信息:ICS:07.030 CCS:M745 发布:2019-01-03 实施:2019-01-04
T/CSTM 00003-2019 二维材料厚度测量 原子力显微镜法
简介:本标准规定了二维材料厚度测量原子力显微镜法的原理、仪器设备、样品前处理、测试方法、厚度计算方法、测量结果的不确定度评定及测试报告。本标准适用于可以与基底形成台阶的二维材料厚度测量
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GB/T 31227-2014 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法
简介:本标准规定了使用原子力显微镜(AFM)测量表面粗糙度的方法。本标准适用于测量溅射成膜方法生成的、平均粗糙度Ra小于100 nm的薄膜。其他非溅射薄膜的表面粗糙度的测量可以参考此方法
信息:ICS:17.040.20 CCS:J04 发布:2014-09-30 实施:2015-04-15
GB/T 31227-2014 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法
简介:本标准规定了使用原子力显微镜(AFM)测量表面粗糙度的方法。本标准适用于测量溅射成膜方法生成的、平均粗糙度Ra小于100 nm的薄膜。其他非溅射薄膜的表面粗糙度的测量可以参考此方法
信息:ICS:17.040.20 CCS:J04 发布:2014-09-30 实施:2015-04-15
GB/T 31227-2014 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法
简介:本标准规定了使用原子力显微镜(AFM)测量表面粗糙度的方法。本标准适用于测量溅射成膜方法生成的、平均粗糙度Ra小于100 nm的薄膜。其他非溅射薄膜的表面粗糙度的测量可以参考此方法
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T/CSCP 0035.16-2017 低合金结构钢实验室腐蚀试验 第16部分:低合金结构钢微区腐蚀电化学试验方法
简介:本标准包括三个部分:低合金结构钢的服役环境、腐蚀类型和腐蚀分析方法。制定本标准目的是为低合金结构钢耐蚀性能的评估及其成分调控提供标准化的腐蚀试验方法。本标准的编写原则是采用腐蚀领域的最新研究成果,吸收现有有关各类腐蚀试验标准中的成熟技术来制定
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2018-06-01 实施:2018-07-30
T/CSCP 0035.16-2017 低合金结构钢实验室腐蚀试验 第16部分:低合金结构钢微区腐蚀电化学试验方法
简介:本标准包括三个部分:低合金结构钢的服役环境、腐蚀类型和腐蚀分析方法。制定本标准目的是为低合金结构钢耐蚀性能的评估及其成分调控提供标准化的腐蚀试验方法。本标准的编写原则是采用腐蚀领域的最新研究成果,吸收现有有关各类腐蚀试验标准中的成熟技术来制定
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2018-06-01 实施:2018-07-30
T/CSCP 0035.16-2017 低合金结构钢实验室腐蚀试验 第16部分:低合金结构钢微区腐蚀电化学试验方法
简介:本标准包括三个部分:低合金结构钢的服役环境、腐蚀类型和腐蚀分析方法。制定本标准目的是为低合金结构钢耐蚀性能的评估及其成分调控提供标准化的腐蚀试验方法。本标准的编写原则是采用腐蚀领域的最新研究成果,吸收现有有关各类腐蚀试验标准中的成熟技术来制定
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2018-06-01 实施:2018-07-30
SJ/T 11503-2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
简介:本标准规定了测试碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法,包括表面轮廓仪法和原子力显微镜法。本标准适用于碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试。其中,原子力显微镜法仅适用于经过化学机械抛光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几纳米至几微米范围内的碳化硅单晶抛光片
信息:ICS:29.045 CCS:H83 发布:2015-04-30 实施:2015-10-01
SJ/T 11503-2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
简介:本标准规定了测试碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法,包括表面轮廓仪法和原子力显微镜法。本标准适用于碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试。其中,原子力显微镜法仅适用于经过化学机械抛光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几纳米至几微米范围内的碳化硅单晶抛光片
信息:ICS:29.045 CCS:H83 发布:2015-04-30 实施:2015-10-01
SJ/T 11503-2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
简介:本标准规定了测试碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法,包括表面轮廓仪法和原子力显微镜法。本标准适用于碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试。其中,原子力显微镜法仅适用于经过化学机械抛光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几纳米至几微米范围内的碳化硅单晶抛光片
信息:ICS:29.045 CCS:H83 发布:2015-04-30 实施:2015-10-01
T/CSTM 00046.16-2018 低合金结构钢腐蚀试验 第16部分:微区腐蚀电化学试验方法导则
简介:本部分规定了低合金结构钢腐蚀过程中微米或纳米量级局部区域的腐蚀电化学信号测量及其分析方法的试验原理、试验设备、试验流程和试验报告。本部分适用于表征低合金
信息:ICS:77.060 CCS:M731 发布:2018-10-16 实施:2018-12-05
T/CSTM 00046.16-2018 低合金结构钢腐蚀试验 第16部分:微区腐蚀电化学试验方法导则
简介:本部分规定了低合金结构钢腐蚀过程中微米或纳米量级局部区域的腐蚀电化学信号测量及其分析方法的试验原理、试验设备、试验流程和试验报告。本部分适用于表征低合金
信息:ICS:77.060 CCS:M731 发布:2018-10-16 实施:2018-12-05
T/CSTM 00046.16-2018 低合金结构钢腐蚀试验 第16部分:微区腐蚀电化学试验方法导则
简介:本部分规定了低合金结构钢腐蚀过程中微米或纳米量级局部区域的腐蚀电化学信号测量及其分析方法的试验原理、试验设备、试验流程和试验报告。本部分适用于表征低合金
信息:ICS:77.060 CCS:M731 发布:2018-10-16 实施:2018-12-05
GB/T 27760-2011 利用Si(111)晶面原子台阶对原子力显微镜亚纳米高度测量进行校准的方法
简介:本标准规定了利用Si(111)晶面原子台阶高度样品校准原子力显微镜z向标度的测量方法。 本标准适用于在大气或真空环境下工作的原子力显微镜,并且其z 向放大倍率达到最大量级,即z向位移在纳米和亚纳米范围内,这是原子力显微镜用于检测半导体表面,光学器件表面和其他高科技元件表面中经常用到的检测范围
信息:ICS:19.020 CCS:N04 发布:2011-12-30 实施:2012-05-01
GB/T 27760-2011 利用Si(111)晶面原子台阶对原子力显微镜亚纳米高度测量进行校准的方法
简介:本标准规定了利用Si(111)晶面原子台阶高度样品校准原子力显微镜z向标度的测量方法。 本标准适用于在大气或真空环境下工作的原子力显微镜,并且其z 向放大倍率达到最大量级,即z向位移在纳米和亚纳米范围内,这是原子力显微镜用于检测半导体表面,光学器件表面和其他高科技元件表面中经常用到的检测范围
信息:ICS:19.020 CCS:N04 发布:2011-12-30 实施:2012-05-01
GB/T 27760-2011 利用Si(111)晶面原子台阶对原子力显微镜亚纳米高度测量进行校准的方法
简介:本标准规定了利用Si(111)晶面原子台阶高度样品校准原子力显微镜z向标度的测量方法。 本标准适用于在大气或真空环境下工作的原子力显微镜,并且其z 向放大倍率达到最大量级,即z向位移在纳米和亚纳米范围内,这是原子力显微镜用于检测半导体表面,光学器件表面和其他高科技元件表面中经常用到的检测范围
信息:ICS:19.020 CCS:N04 发布:2011-12-30 实施:2012-05-01
T/ZGIA 005-2021 石墨烯测试方法 复合纤维中石墨烯基材料的测定 锦纶
简介:本文件描述了锦纶复合纤维及其复合切片中石墨烯基材料定性测试的方法。本文件适用于含石墨烯基材料的锦纶纤维及切片
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2021-12-27 实施:2021-12-29
T/ZGIA 005-2021 石墨烯测试方法 复合纤维中石墨烯基材料的测定 锦纶
简介:本文件描述了锦纶复合纤维及其复合切片中石墨烯基材料定性测试的方法。本文件适用于含石墨烯基材料的锦纶纤维及切片
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2021-12-27 实施:2021-12-29
T/ZGIA 005-2021 石墨烯测试方法 复合纤维中石墨烯基材料的测定 锦纶
简介:本文件描述了锦纶复合纤维及其复合切片中石墨烯基材料定性测试的方法。本文件适用于含石墨烯基材料的锦纶纤维及切片
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2021-12-27 实施:2021-12-29
GB/T 26113-2010 微机电系统(MEMS)技术 微几何量评定总则
简介:本标准规定了微几何量的评定基本原则、评定要素、评定程序、评定方法以及评定规则。本标准适用于企业、研究机构、检测机构从事微机电技术及产品的研究、设计、生产、检测
信息:ICS:31.200 CCS:L55 发布:2011-01-10 实施:2011-10-01
GB/T 26113-2010 微机电系统(MEMS)技术 微几何量评定总则
简介:本标准规定了微几何量的评定基本原则、评定要素、评定程序、评定方法以及评定规则。本标准适用于企业、研究机构、检测机构从事微机电技术及产品的研究、设计、生产、检测
信息:ICS:31.200 CCS:L55 发布:2011-01-10 实施:2011-10-01
GB/T 26113-2010 微机电系统(MEMS)技术 微几何量评定总则
简介:本标准规定了微几何量的评定基本原则、评定要素、评定程序、评定方法以及评定规则。本标准适用于企业、研究机构、检测机构从事微机电技术及产品的研究、设计、生产、检测
信息:ICS:31.200 CCS:L55 发布:2011-01-10 实施:2011-10-01
GB/T 39516-2020 微纳米标准样板(几何量
简介:
信息:ICS:17.040.30 CCS:J42 发布:2020-11-19 实施:2021-06-01 00:00:00.0
GB/T 39516-2020 微纳米标准样板(几何量
简介:
信息:ICS:17.040.30 CCS:J42 发布:2020-11-19 实施:2021-06-01 00:00:00.0
GB/T 39516-2020 微纳米标准样板(几何量
简介:
信息:ICS:17.040.30 CCS:J42 发布:2020-11-19 实施:2021-06-01 00:00:00.0
DB44/T 1328-2014 蓝宝石图形化衬底片测试技术规范
简介:本标准规定了用于制备LED的蓝宝石图形化衬底片的测试技术规范,包括蓝宝石图形化衬底片的图形结构、表面质量、图形一致性的测试要求和测试方法。 本标准适用于制备半导体照明器件的氮化物外延生长所用蓝宝石图形化衬底片
信息:ICS:77.040 CCS:H 21 发布:2014-04-18 实施:2014-07-18
DB44/T 1328-2014 蓝宝石图形化衬底片测试技术规范
简介:本标准规定了用于制备LED的蓝宝石图形化衬底片的测试技术规范,包括蓝宝石图形化衬底片的图形结构、表面质量、图形一致性的测试要求和测试方法。 本标准适用于制备半导体照明器件的氮化物外延生长所用蓝宝石图形化衬底片
信息:ICS:77.040 CCS:H 21 发布:2014-04-18 实施:2014-07-18
DB44/T 1328-2014 蓝宝石图形化衬底片测试技术规范
简介:本标准规定了用于制备LED的蓝宝石图形化衬底片的测试技术规范,包括蓝宝石图形化衬底片的图形结构、表面质量、图形一致性的测试要求和测试方法。 本标准适用于制备半导体照明器件的氮化物外延生长所用蓝宝石图形化衬底片
信息:ICS:77.040 CCS:H 21 发布:2014-04-18 实施:2014-07-18
GB/T 40293-2021 红外硫系光学薄膜折射率测试方法
简介:
信息:ICS:17.180.01 CCS:N05 发布:2021-08-20 实施:2022-03-01 00:00:00.0
GB/T 40293-2021 红外硫系光学薄膜折射率测试方法
简介:
信息:ICS:17.180.01 CCS:N05 发布:2021-08-20 实施:2022-03-01 00:00:00.0
GB/T 40293-2021 红外硫系光学薄膜折射率测试方法
简介:
信息:ICS:17.180.01 CCS:N05 发布:2021-08-20 实施:2022-03-01 00:00:00.0
T/BSPT 001-2018 微纳加工 基于激光诱导应变的大面积表面三维微纳结构加工方法
简介:表面微纳结构展现出许多独特的光电磁等特性,已在许多领域得到了广泛的应用。随着表面科学与工程技术的快速发展,人们对表面结构的复杂性、多级次性、大面积等提出了愈来愈高的要求,这对现有的常规微纳加工技术在成本、工艺、批量生产、精准设计和可控加工等方面提出了新的挑战。近年来,各种新的非常规加工方法不断被探索
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2018-06-20 实施:2018-06-20
T/BSPT 001-2018 微纳加工 基于激光诱导应变的大面积表面三维微纳结构加工方法
简介:表面微纳结构展现出许多独特的光电磁等特性,已在许多领域得到了广泛的应用。随着表面科学与工程技术的快速发展,人们对表面结构的复杂性、多级次性、大面积等提出了愈来愈高的要求,这对现有的常规微纳加工技术在成本、工艺、批量生产、精准设计和可控加工等方面提出了新的挑战。近年来,各种新的非常规加工方法不断被探索
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2018-06-20 实施:2018-06-20
T/BSPT 001-2018 微纳加工 基于激光诱导应变的大面积表面三维微纳结构加工方法
简介:表面微纳结构展现出许多独特的光电磁等特性,已在许多领域得到了广泛的应用。随着表面科学与工程技术的快速发展,人们对表面结构的复杂性、多级次性、大面积等提出了愈来愈高的要求,这对现有的常规微纳加工技术在成本、工艺、批量生产、精准设计和可控加工等方面提出了新的挑战。近年来,各种新的非常规加工方法不断被探索
信息:ICS:19.020 CCS:M731 发布:2018-06-20 实施:2018-06-20
T/ZSA 81-2021 氧化石墨烯
简介:本文件规定了氧化石墨烯的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、包装、运输和贮存方法。本文件适用于氧化石墨烯粉体及以氧化石墨烯水分散液,其他溶剂的氧化石墨烯分散液可参照执行
信息:ICS:71.100.99 CCS:C261 发布:2021-10-14 实施:2021-10-31
T/ZSA 81-2021 氧化石墨烯
简介:本文件规定了氧化石墨烯的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、包装、运输和贮存方法。本文件适用于氧化石墨烯粉体及以氧化石墨烯水分散液,其他溶剂的氧化石墨烯分散液可参照执行
信息:ICS:71.100.99 CCS:C261 发布:2021-10-14 实施:2021-10-31
T/ZSA 81-2021 氧化石墨烯
简介:本文件规定了氧化石墨烯的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、包装、运输和贮存方法。本文件适用于氧化石墨烯粉体及以氧化石墨烯水分散液,其他溶剂的氧化石墨烯分散液可参照执行
信息:ICS:71.100.99 CCS:C261 发布:2021-10-14 实施:2021-10-31
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