(CMA)
(CNAS)
(ISO)
(高新技术企业)
硅元素检测相关标准参考信息
GB/T 32277-2015 硅的仪器中子活化分析测试方法
简介：
信息：ICS： CCS： 发布：2017-01-01 实施：2017-01-01
GB/T 32277-2015 硅的仪器中子活化分析测试方法
简介：
信息：ICS： CCS： 发布：2017-01-01 实施：2017-01-01
GB/T 32277-2015 硅的仪器中子活化分析测试方法
简介：
信息：ICS： CCS： 发布：2017-01-01 实施：2017-01-01
DB35/T 1873-2019 热喷涂旋转硅靶材通用技术条件
简介：本标准规定了热喷涂旋转硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于以高纯硅粉为原料，添加微量物质后，采用等离子喷涂工艺，将硅粉喷涂于不锈钢衬管上的热喷涂旋转硅靶材
信息：ICS：ICS 77.150.99 CCS：H 72 发布：2019-12-19 实施：2020-03-19
DB35/T 1873-2019 热喷涂旋转硅靶材通用技术条件
简介：本标准规定了热喷涂旋转硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于以高纯硅粉为原料，添加微量物质后，采用等离子喷涂工艺，将硅粉喷涂于不锈钢衬管上的热喷涂旋转硅靶材
信息：ICS：ICS 77.150.99 CCS：H 72 发布：2019-12-19 实施：2020-03-19
DB35/T 1873-2019 热喷涂旋转硅靶材通用技术条件
简介：本标准规定了热喷涂旋转硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于以高纯硅粉为原料，添加微量物质后，采用等离子喷涂工艺，将硅粉喷涂于不锈钢衬管上的热喷涂旋转硅靶材
信息：ICS：ICS 77.150.99 CCS：H 72 发布：2019-12-19 实施：2020-03-19
YY 0647-2008 无源外科植入物.乳房植入物的专用要求
简介：本标准规定了供临床使用乳房植入物（或称为乳房假体，乳房植入体和人工乳房等，以下简称植入物）的专用要求。本标准对预期性能、设计属性、材料、设计评价、制造、灭菌、包装和由制造商提供的信息等做了具体说明。同时考虑到植入物的安全性因素
信息：ICS：11.040.40 CCS：C35 发布：2008-04-25 实施：2009-12-01
YY 0647-2008 无源外科植入物.乳房植入物的专用要求
简介：本标准规定了供临床使用乳房植入物（或称为乳房假体，乳房植入体和人工乳房等，以下简称植入物）的专用要求。本标准对预期性能、设计属性、材料、设计评价、制造、灭菌、包装和由制造商提供的信息等做了具体说明。同时考虑到植入物的安全性因素
信息：ICS：11.040.40 CCS：C35 发布：2008-04-25 实施：2009-12-01
YY 0647-2008 无源外科植入物.乳房植入物的专用要求
简介：本标准规定了供临床使用乳房植入物（或称为乳房假体，乳房植入体和人工乳房等，以下简称植入物）的专用要求。本标准对预期性能、设计属性、材料、设计评价、制造、灭菌、包装和由制造商提供的信息等做了具体说明。同时考虑到植入物的安全性因素
信息：ICS：11.040.40 CCS：C35 发布：2008-04-25 实施：2009-12-01
DB35/T 1146-2011 硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法
简介：本标准规定了测定硅材料中杂质元素含量的辉光放电质谱法（G D M S )所涉及的术语和定义、原理、试剂与材料、仪器设备、样品要求、样品要求、分析步骤、结果计算、允许偏差。 本标准适用于纯度不高于99.99999%的硅材料中的杂质元素L i、Be、B、N a、M g、A 1、P、K、T h、U等元素的
信息：ICS：29.045 CCS：H80 发布：2011-04-10 实施：2011-07-10
DB35/T 1146-2011 硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法
简介：本标准规定了测定硅材料中杂质元素含量的辉光放电质谱法（G D M S )所涉及的术语和定义、原理、试剂与材料、仪器设备、样品要求、样品要求、分析步骤、结果计算、允许偏差。 本标准适用于纯度不高于99.99999%的硅材料中的杂质元素L i、Be、B、N a、M g、A 1、P、K、T h、U等元素的
信息：ICS：29.045 CCS：H80 发布：2011-04-10 实施：2011-07-10
DB35/T 1146-2011 硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法
简介：本标准规定了测定硅材料中杂质元素含量的辉光放电质谱法（G D M S )所涉及的术语和定义、原理、试剂与材料、仪器设备、样品要求、样品要求、分析步骤、结果计算、允许偏差。 本标准适用于纯度不高于99.99999%的硅材料中的杂质元素L i、Be、B、N a、M g、A 1、P、K、T h、U等元素的
信息：ICS：29.045 CCS：H80 发布：2011-04-10 实施：2011-07-10
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