(CMA)
(CNAS)
(ISO)
(高新技术企业)
信息概要
半导体钝化层漏电流介电测试是评估半导体器件钝化层绝缘性能的关键检测项目，主要用于确保钝化层在高压或高温环境下不会产生漏电或击穿现象。该测试对于保障半导体器件的可靠性、稳定性和寿命至关重要，尤其在集成电路、功率器件等高端应用中，钝化层的质量直接影响产品的性能和安全性。通过第三方检测机构的专业服务，客户可以准确评估钝化层的介电特性，及时发现潜在缺陷，优化生产工艺，降低产品失效风险。
检测项目
漏电流密度, 介电强度, 击穿电压, 介电常数, 损耗角正切, 表面电阻率, 体积电阻率, 绝缘电阻, 电容值, 极化率, 介电弛豫时间, 热稳定性, 湿度敏感性, 频率依赖性, 温度系数, 应力耐受性, 老化性能, 界面特性, 缺陷密度, 均匀性
检测范围
氮化硅钝化层, 二氧化硅钝化层, 氮氧化硅钝化层, 聚酰亚胺钝化层, 碳化硅钝化层, 氧化铝钝化层, 氧化铪钝化层, 氧化锆钝化层, 氟化硅钝化层, 有机硅钝化层, 磷硅玻璃钝化层, 硼磷硅玻璃钝化层, 低介电常数钝化层, 高介电常数钝化层, 多层复合钝化层, 纳米结构钝化层, 超薄钝化层, 柔性钝化层, 透明钝化层, 光敏钝化层
检测方法
电流-电压特性测试（I-V测试）：通过施加电压测量漏电流，评估钝化层的绝缘性能。
介电击穿测试：逐步增加电压直至钝化层击穿，测定击穿电场强度。
电容-电压测试（C-V测试）：分析钝化层的介电常数和界面电荷特性。
阻抗分析：通过频率扫描测量介电损耗和极化特性。
高温高湿测试：在高温高湿环境下评估钝化层的稳定性。
热循环测试：通过温度循环验证钝化层的热机械可靠性。
扫描电子显微镜（SEM）：观察钝化层表面形貌和缺陷分布。
原子力显微镜（AFM）：测量钝化层表面粗糙度和纳米级缺陷。
椭偏仪测试：非接触式测量钝化层厚度和光学常数。
傅里叶变换红外光谱（FTIR）：分析钝化层的化学组成和键合结构。
X射线光电子能谱（XPS）：测定钝化层表面元素组成和化学状态。
二次离子质谱（SIMS）：检测钝化层中的杂质分布和浓度。
应力迁移测试：评估钝化层在机械应力下的性能变化。
老化寿命测试：模拟长期使用条件，预测钝化层的使用寿命。
射频特性测试：在高频条件下测量钝化层的介电响应。
检测仪器
半导体参数分析仪, 高压源测量单元, 阻抗分析仪, 电容-电压测试仪, 介电击穿测试仪, 扫描电子显微镜, 原子力显微镜, 椭偏仪, 傅里叶变换红外光谱仪, X射线光电子能谱仪, 二次离子质谱仪, 高温高湿试验箱, 热循环试验箱, 探针台, 射频网络分析仪
我们的实力
部分实验仪器
合作客户
注意：因业务调整，暂不接受个人委托测试望见谅。
