(CMA)
(CNAS)
(ISO)
(高新技术企业)
信息概要
3D集成硅片层间载流子互扰测试是针对先进三维集成电路中不同硅片层间载流子相互干扰的专项检测服务。随着半导体工艺向三维堆叠方向发展，层间载流子互扰成为影响器件性能与可靠性的关键因素。本检测通过精准分析载流子迁移、扩散及耦合效应，为设计优化和工艺改进提供数据支持。检测的重要性在于：避免信号串扰导致的逻辑错误，降低功耗损耗，提升芯片整体良率，确保高密度集成下的功能稳定性，是3D集成电路研发与量产的必要环节。
检测项目
层间漏电流测试，载流子迁移率测量，耦合电容分析，串扰噪声检测，热载流子效应评估，界面态密度测试，能带偏移量测定，载流子扩散系数，阈值电压漂移，栅极泄漏电流，动态功耗分析，静态功耗测试，信号延迟测量，噪声容限评估，击穿电压测试，寄生电阻检测，寄生电容分析，载流子复合率，电离辐射效应，电磁干扰敏感度
检测范围
硅通孔(TSV)互连堆叠芯片，存储器逻辑堆叠器件，传感器处理器集成模块，射频前端3D模块，光电异质集成芯片，高带宽存储(HBM)堆叠，系统级封装(SiP)器件，微处理器缓存堆叠，人工智能加速芯片，5G射频前端模块，三维NAND闪存，CMOS图像传感器堆叠，MEMS集成系统，功率管理IC堆叠，生物医学传感芯片，量子计算单元堆叠，自动驾驶感知芯片，物联网边缘计算节点，可穿戴设备集成模块，航空航天电子系统
检测方法
扫描电容显微镜(SCM)用于纳米级载流子分布成像
时域反射计(TDR)测量信号传输延迟与阻抗变化
二次谐波产生(SHG)检测界面电场分布
深能级瞬态谱(DLTS)分析界面陷阱特性
微区光致发光(μ-PL)测绘载流子复合效率
扫描微波阻抗显微镜(sMIM)定量介电常数变化
电子束诱导电流(EBIC)定位载流子收集效率
热辐射显微镜定位热载流子泄漏点
四探针法测量层间接触电阻
高频C-V特性测试界面态密度
噪声频谱分析评估载流子波动特性
飞秒泵浦探测技术研究超快载流子动力学
三维有限元仿真验证互扰模型
原子力显微镜(AFM)结合导电模式表征局部电特性
X射线光电子能谱(XPS)测定能带偏移量
检测仪器
半导体参数分析仪，探针台测试系统，网络分析仪，示波器，频谱分析仪，扫描电子显微镜，原子力显微镜，飞秒激光系统，低温恒温器，霍尔效应测试仪，热发射显微镜，锁相放大器，深能级瞬态谱仪，二次离子质谱仪，X射线衍射仪
我们的实力
部分实验仪器
合作客户
注意：因业务调整，暂不接受个人委托测试望见谅。
