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cma资质(CMA)     CNAS资质(CNAS)     iso体系(ISO) 高新技术企业(高新技术企业)

信息概要

击穿通道三维重构技术主要应用于半导体器件、微电子封装及复杂材料界面的失效分析领域,通过高精度三维成像手段还原击穿路径的微观结构特征。此类产品的可靠性直接影响电子设备的安全性与稳定性,第三方检测机构通过系统性检测可揭示材料缺陷、界面结合强度及导电性能等关键参数,为产品质量控制、故障溯源及工艺优化提供数据支撑。

检测项目

几何尺寸精度,表面粗糙度,材料成分分布,相位组成分析,元素偏析程度,晶粒取向排列,孔隙率检测,裂纹长度测量,界面结合强度,导电通路完整性,热阻分布评估,击穿电压阈值,局部放电特性,介电常数测定,应力分布云图,腐蚀层厚度,镀层均匀性,接触电阻测试,疲劳裂纹扩展速率,残余应力水平

检测范围

硅基半导体击穿通道,碳化硅功率器件,氮化镓高频器件,多层陶瓷电容器,印刷电路板微导通孔,绝缘栅双极型晶体管,射频微波器件,高压真空开关管,磁性材料复合界面,纳米级互连线路,柔性电子器件,生物芯片微流控通道,光电子器件异质结,新能源电池电极,超导量子器件,高密度互连封装基板,深亚微米级蚀刻沟槽,微机电系统传感器,航空电子耐极端环境器件,医疗植入器件封装层

检测方法

X射线断层扫描(非破坏性获取三维内部结构)

扫描电子显微镜背散射成像(表征材料成分差异)

能量色散X射线谱分析(元素分布定量 mapping)

电子背散射衍射(晶体取向与织构分析)

聚焦离子束三维重构(纳米级精度截面观测)

四点探针电阻测试(微区导电性能评估)

红外热成像定位(热异常区域精准捕捉)

声发射检测(动态裂纹扩展监测)

激光共聚焦显微(表面形貌三维重建)

二次离子质谱分析(痕量元素深度剖析)

微拉曼光谱(分子结构应力状态分析)

透射电子显微镜(原子级界面缺陷观察)

热重-差示扫描量热联用(材料热稳定性评估)

超声波显微检测(内部空洞与分层识别)

电化学阻抗谱(界面电荷传输特性分析)

检测仪器

Micro-CT三维显微成像系统,场发射扫描电镜,电子背散射衍射仪,聚焦离子束-扫描电镜双束系统,四点探针测试仪,红外热像仪,原子力显微镜,二次离子质谱仪,激光共聚焦显微镜,透射电子显微镜,热重分析仪,差示扫描量热仪,超声波扫描显微镜,电化学工作站,X射线能谱仪,微区拉曼光谱仪,三维轮廓测量仪

我们的实力

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部分实验仪器

实验仪器 实验仪器 实验仪器 实验仪器

合作客户

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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。