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cma资质(CMA)     CNAS资质(CNAS)     iso体系(ISO) 高新技术企业(高新技术企业)

信息概要

扫描电镜(SEM)检测是一种利用高能电子束扫描样品表面,通过检测二次电子、背散射电子等信号获取材料微观形貌、成分及结构信息的技术。该检测广泛应用于材料科学、电子元件、生物医学、地质分析等领域,可精准分析样品表面形貌、元素分布、晶体结构等关键参数。第三方检测机构通过SEM检测服务,帮助企业验证产品质量、优化生产工艺、解决失效问题,并为研发提供数据支持,是保障产品性能与可靠性的重要手段。

检测项目

表面形貌分析,元素成分定性定量分析,微观结构观察,颗粒尺寸分布,能谱(EDS)元素分布图谱,样品表面粗糙度,断口形貌分析,涂层厚度测量,晶界与缺陷分析,污染物成分鉴定,材料相组成分析,纳米材料形貌表征,纤维直径测量,孔隙率计算,微观形貌三维重建,晶体取向分析,薄膜均匀性评估,微区成分对比,生物样品表面形貌,电子元器件焊点质量检测

检测范围

金属材料,陶瓷材料,高分子材料,复合材料,纳米材料,半导体器件,电子元件,生物组织,矿物样品,涂层与镀层,纤维材料,薄膜材料,粉末颗粒,医疗器械,锂电池材料,地质样品,聚合物,催化剂,微电子封装材料,环境污染物

检测方法

二次电子成像(SEI):通过检测二次电子信号获取样品表面形貌信息。

背散射电子成像(BSE):利用背散射电子信号分析样品成分差异与原子序数对比。

能谱分析(EDS):结合X射线能谱仪进行元素定性与半定量分析。

电子背散射衍射(EBSD):用于晶体结构取向与晶界分布分析。

低真空模式检测:适用于非导电样品或含水生物样品。

高分辨率模式:采用场发射电子枪提升图像分辨率至纳米级。

动态聚焦技术:优化不同区域聚焦状态以获取清晰图像。

三维表面重构:通过多角度成像重建样品三维形貌。

原位加热/冷却实验:观察材料在温度变化下的微观形貌演变。

电子束刻蚀:利用聚焦电子束对样品进行微区加工。

元素线扫描/面分布:分析特定区域元素分布特征。

荷电效应抑制技术:通过镀膜或低电压模式减少非导电样品荷电效应。

能谱定量分析:基于标准样品进行元素含量精确计算。

颗粒统计分析:通过图像处理软件自动统计颗粒尺寸与分布。

断层成像技术:结合离子束切割实现样品内部结构分层成像。

检测仪器

场发射扫描电镜(FE-SEM),钨灯丝扫描电镜(W-SEM),环境扫描电镜(ESEM),能谱仪(EDS),电子背散射衍射仪(EBSD),聚焦离子束系统(FIB-SEM),X射线能谱联用系统,阴极荧光探测器(CL),二次电子探测器(SE),背散射电子探测器(BSE),气体注入系统,低温样品台,高温样品台,三维形貌重建软件,纳米操作手(Nanomanipulator)

我们的实力

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部分实验仪器

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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。